Изучение структурирование тонких пленок SiO2:Ge° полученные золь-гель-методом и нанесенные с помощью импульсного лазерного испарения

Abstract

Основная цель проведенных исследований состояла в изучении возможности улучшения однородности распределения добавляемых допантовых веществ по поверхности SiO2-глобул, которые являются основой ксерогеля. Для достижения этой цели легирующие соли, такие как нитрат меди, равномерно распределялись на стадии формирования золя. Затем золь подвергался последовательной термообработке в контролируемой газовой среде (воздухе или осушенном водороде) для превращения его в ксерогель. Полученные образцы имели форму микропорошков или таблетированных заготовок диаметром около 12,5 мм и состава SiO2:GeO2 или SiO2:Ge°. Эти образцы затем использовались в процессе импульсного лазерного испарения для создания тонких пленок, применяемых в микро- и наноэлектронике.