Показать сокращенную информацию

dc.contributor.authorГайшун, В. Е.
dc.contributor.authorБойко, А. А.
dc.contributor.authorПодденежный, Е. Н.
dc.contributor.authorМельниченко, И. М.
dc.coverage.spatialГомельru_RU
dc.date.accessioned2023-11-09T07:12:37Z
dc.date.available2023-11-09T07:12:37Z
dc.date.issued1996
dc.identifier.citationПолучение порошка диоксида кремния золь-гель методом для финишной полировки пластин монокристаллического кремния / В. Е. Гайшун [и др.] // Материалы, технологии, инструмент. –1996. – № 3. – С. 44-45.ru_RU
dc.identifier.urihttps://elib.gstu.by/handle/220612/29173
dc.description.abstractРазработана промышленная технология получения порошка особо чистого диоксида кремния по золь-гель методу. Этот порошок может использоваться в качестве основного компонента полирующей суспензии для финишной обработки пластин полупроводниковых материалов.ru_RU
dc.description.abstractThe industrial technology of preparation of pure silica powder by sol-gel method was developed. This powder can be used as basic component of burnishing suspension for final polishing semiconductor wafers.
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherООО "ИнфоТрибо"ru_RU
dc.titleПолучение порошка диоксида кремния золь-гель методом для финишной полировки пластин монокристаллического кремнияru_RU
dc.title.alternativeSol-gel method preparation of silica burnishing powder for fine polishing of monocrystal silicon wafersru_RU
dc.typeArticleru_RU
dc.identifier.udc621.382


Файлы, содержащиеся в ресурсе

Thumbnail

Располагается в коллекциях:

Показать сокращенную информацию