Показать сокращенную информацию

dc.contributor.authorХило, П. А.
dc.contributor.authorПетрашенко, П. Д.
dc.date.accessioned2021-06-01T07:33:27Z
dc.date.available2021-06-01T07:33:27Z
dc.date.issued2002
dc.identifier.citationУстройство для ионноплазменного нанесения диэлектрического покрытия : пат. 709 U Респ. Беларусь : МПК7 C 23C 14/54, G 01B 7/06 / П. А. Хило, П. Д. Петрашенко ; заявитель Учреждение образования "Гомельский государственный технический университет имени П.О. Сухого" ; опубл. 2002.12.30.ru_RU
dc.identifier.other709 U
dc.identifier.urihttps://elib.gstu.by/handle/220612/24403
dc.description.abstractПолезная модель относится к области ионноплазменного нанесения диэлектрических покрытий в вакууме, а более конкретно к устройствам с системами контроля состояния покрытий, например их сплошности.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.subjectПолезная модельru_RU
dc.subjectПатентru_RU
dc.subjectИонноплазменные нанесения диэлектрических покрытийru_RU
dc.titleУстройство для ионноплазменного нанесения диэлектрического покрытияru_RU
dc.typeOtherru_RU


Файлы, содержащиеся в ресурсе

Thumbnail

Располагается в коллекциях:

Показать сокращенную информацию