Устройство для ионноплазменного нанесения диэлектрического покрытия
Citation
Устройство для ионноплазменного нанесения диэлектрического покрытия : пат. 709 U Респ. Беларусь : МПК7 C 23C 14/54, G 01B 7/06 / П. А. Хило, П. Д. Петрашенко ; заявитель Учреждение образования "Гомельский государственный технический университет имени П.О. Сухого" ; опубл. 2002.12.30.
Collections
- Патенты [241]