Show simple item record

dc.contributor.authorШабловский, О. Н.ru_RU
dc.contributor.authorКроль, Д. Г.ru_RU
dc.contributor.authorКонцевой, И. А.ru_RU
dc.date.accessioned2019-10-25T10:06:43Z
dc.date.available2019-10-25T10:06:43Z
dc.date.issued2019
dc.identifier.citationШабловский, О. Н. Параметрические колебания теплового поля при взрывной кристаллизации аморфных пленок / О. Н. Шабловский, Д. Г. Кроль, И. А. Концевой // Вестник ГГТУ имени П. О. Сухого: научно - практический журнал. - 2019. - № 3. - С. 3-11.ru_RU
dc.identifier.urihttps://elib.gstu.by/handle/220612/21555
dc.description.abstractИзучены тепловые процессы, происходящие при взрывной кристаллизации аморфных пленок, напыленных на подложку. Представлены результаты численного моделирования параметрических колебаний теплового поля в системе «фазовая граница – подложка». Рассмотрены стационарный и волновой режимы возбуждения горячих центров кристаллизации в аморфной фазе. Расчеты выполнены для аморфной пленки германия. Установлены основные физические факторы, определяющие амплитудно-частотные свойства данного процесса: толщина пленки, температура подложки и скорость фазовой границы кристаллизации. Указаны примеры возникновения резонансных ситуаций. Рассмотрены колебания параметрической системы, которая испытывает внешнее воздействие в режиме биений. Для этой системы по-строен трехмерный фазовый портрет, демонстрирующий ее динамические свойства. При наличии спектра частот структура фазовых траекторий в основном аналогична варианту колебаний на одной частоте.ru_RU
dc.description.abstractThe thermal processes occurring during explosive crystallization of amorphous films deposited on a substrate are studied. The results of numerical modeling of parametric oscillations of a thermal field in the “phase boundary – substrate” system are presented. The stationary and wave modes of hot crystallization centers in the amorphous phase are considered. The calculations are performed for an amorphous germanium film. The main physical factors determining the amplitude and frequency properties of this process are established: film thickness, substrate temperature, and crystallization phase boundary rate. Examples of the resonant situation occurrence are indicated. The parametric system oscillations, which has external influence in the beating mode, are considered. A three-dimensional phase portrait is constructed for this system, demonstrating its dynamic properties. In the presence of a frequency spectrum, the structure of phase trace is basically similar to the variant of oscillations at one frequency.en
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherГГТУ им. П.О.Сухогоru_RU
dc.subjectВзрывная кристаллизацияru_RU
dc.subjectТемпература подложкиru
dc.subjectТолщина пленкиru
dc.subjectПараметрический резонансru
dc.titleПараметрические колебания теплового поля при взрывной кристаллизации аморфных пленокru_RU
dc.title.alternativeParametric Oscillations of a Thermal Field During Explosive Crystallization of Amorphous Filmsen
dc.typeArticleru_RU
dc.identifier.udc548.232.4


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record